Technika posiewu redukcyjnego (często nazywana też posiewem izolacyjnym/strefowym) służy do uzyskania pojedynczych, odizolowanych kolonii na powierzchni podłoża stałego w płytce Petriego. W praktyce wykonuje się ją przez nanoszenie materiału i rozprowadzanie go ezą (lub wymazówką) w kolejnych obszarach płytki tak, aby w każdej następnej strefie na podłożu znalazło się coraz mniej komórek. Efektem końcowym powinny być miejsca, gdzie wyrastają oddzielne kolonie możliwe do przeszczepienia jako czysta kultura.
Odpowiedź "redukcyjną" jest właściwa wtedy, gdy na rysunku widać charakterystyczny schemat rozprowadzania materiału po powierzchni płytki: kolejne pociągnięcia/strefy, w których zagęszczenie posiewu maleje. Kluczową cechą nie jest sama obecność płytki, lecz cel i sposób rozcieńczania mechanicznego przez kolejne przetarcia.
Dlaczego pozostałe odpowiedzi nie pasują do tej techniki:
- "wgłębną" wybiera się, gdy materiał jest wprowadzany w głąb podłoża (np. przez wkłucie w agar półstały lub wypełnienie/zalanie w sposób powodujący wzrost także wewnątrz). To nie jest metoda strefowego rozrzedzania na powierzchni.
- "na skos" dotyczy podłoża zestalającego się pod kątem w probówce (skos agarowy). Technika polega na posiewie na powierzchni skosu, a nie na wykonywaniu kolejnych stref redukcji na płytce.
- "płytek lanych" (metoda pour plate) polega na zmieszaniu zawiesiny drobnoustrojów z płynnym, schłodzonym agarem i wylaniu do płytki. Kolonie mogą wtedy rosnąć zarówno w masie agaru, jak i na powierzchni, a mechanizm nie opiera się na strefowym przecieraniu.
Wskazówka egzaminacyjna: jeśli na rysunku widzisz sekwencję stref i "przerzedzanie" posiewu w kolejnych ruchach po powierzchni – rozpoznawaj posiew redukcyjny. Jeśli widać wkłucie, probówkę ze skosem lub wylewanie agaru – to odpowiednio posiew wgłębny, na skos albo płytki lane.
